“涂覆基板”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果967058个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]基板涂覆装置和基板涂覆方法-CN200610108320.4无效
发明人：元村秀峰 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2004-04-30 - 公布日： 2007-06-06 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：提供一种基板涂覆装置及基板涂覆方法，该基板涂覆装置通过使用具有间隙的喷嘴，利用毛细管现象使存储在基板下方的涂覆液上升，使该涂覆液接触朝向下方的基板的被涂覆面，使所述基板和所述喷嘴相对移动，从而在所述被涂覆面上形成涂覆膜，该基板涂覆装置具有：测定从设在所述基板的被涂覆面下方的原点位置到所述基板的被涂覆面的距离的测定单元；使所述喷嘴升降的升降单元；以及根据所述测定单元的测定结果，算出用于使该涂覆液接触被涂覆面的所述喷嘴的上升量、和用于在涂覆液接触后形成规定膜厚的涂覆膜的喷嘴的下降量，并根据所述算出结果控制所述升降单元的控制单元。
基板涂覆装置方法

[发明专利]在串列设备内涂覆基板的方法-CN200410104918.7无效
发明人：艾伯特·卡斯特纳;迈克尔·盖斯勒;托马斯·利普尼茨;于尔根·布鲁赫;安德烈亚斯·弗卢格;伯恩德·西茨卡 -专利权人：应用薄膜两合公司
申请日： 2004-12-24 - 公布日： 2005-11-02 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明涉及一种在串列设备中涂覆基板的方法，其中基板被移动通过至少一个涂覆室，并在其移动过程中被涂覆。在这个方法中，首先，形成涂覆室的模型，该模型考虑到涂覆室参数由于基板移动经过涂覆室而引起的变化。随后，获得基板在涂覆室内的位置。接着，根据涂覆室的模型，以基板的位置为基础设置涂覆室参数。
串列设备内涂覆基板方法

[实用新型]涂覆基台-CN201920301726.7有效
发明人：莫凡 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-03-08 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： B05C11/00 文献下载
摘要：一种涂覆基台，该涂覆基台包括：基台和可切换基台。基台具有用于承载待涂覆基板的承载面；沿涂覆喷头的行进方向，基台的前侧和后侧均设有一可切换基台，可切换基台包括至少一个基板，每一个基板具有作业工位和清洗工位，其中，当两个可切换基台均有一个基板处于作业工位时，沿涂覆喷头的行进方向，一个可切换基台的一个基板的待涂覆面位于待涂覆基板的涂覆面的前端，一个可切换基台的一个基板的待涂覆面位于待涂覆基板的涂覆面的后端。该涂覆基台可以减少涂覆前后端涂覆不均匀的不良发生率，简化涂覆工艺，提高了良品率。
基台可切换涂覆基板涂覆基板涂覆基台喷头作业工位涂覆面行进不良发生率清洗工位涂覆工艺不均匀承载面良品率承载

[实用新型]基板检测装置及基板处理系统-CN202023157027.1有效
发明人：郑有善;金炯剟 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2020-12-24 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：公开基板检测装置及基板处理系统。根据一个实施例的基板处理系统可包括：处理液涂覆单元，其将处理液涂覆于基板；基板干燥单元，其用于对涂覆有处理液的基板进行干燥；基板移动单元，其从处理液涂覆单元中搬出基板，并将基板搬入基板干燥单元；第一检测部，其在从处理液涂覆单元中搬出基板的过程中，检测基板的处理液涂覆状态；以及第二检测部，其在将基板搬入基板干燥单元的过程中，检测基板的处理液涂覆状态。
检测装置处理系统

[发明专利]基板涂覆装置和基板涂覆方法-CN200410037268.9无效
发明人：元村秀峰 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2004-04-30 - 公布日： 2004-12-01 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：提供一种自动测定从原点位置到基板的距离，根据测定数据可以控制被涂覆面和喷嘴的间隙的基板涂覆装置和基板涂覆方法。基板涂覆装置(1)利用毛细管现象使储存在基板(10)的更下方的涂覆液(20)上升，使涂覆液(20)接触朝下方的基板(10)的被涂覆面，使喷嘴(24)和基板(10)相对移动，从而形成涂覆膜，该基板涂覆装置(1)构成为，具有：作为测定到基板(10)的被涂覆面的距离(h1)的测定单元的直线量规(7)；使喷嘴(24)升降的升降部(22)；根据直线量规(7)所测定的测定结果控制升降部(22)的控制单元(6)。
基板涂覆装置方法

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201310110379.7有效
发明人：朴铁镐;金大星 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2013-04-01 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： B05C9/08 文献下载
摘要：本发明提供使印刷在基板上的溶液立刻固化的基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置包括：支承构件（100），用于配置基板；涂覆单元组件（200），包含向基板涂覆溶液的涂覆单元（200a）；固化单元（300），以能够向支承构件（100）的两侧移动的方式接合，向涂覆在基板上的溶液提供吸入压力涂覆单元（200a）包括：涂覆移送构件（201a），以可以向支承构件（100）的两侧移动的方式接合；涂覆构件（205a），与涂覆移送构件（201a）接合，以喷墨打印方式向基板涂覆溶液。
处理装置方法

[发明专利]带涂覆膜的基板的制造法、滤色器及其制造法和显示装置-CN200810097168.3无效
发明人：金子若彦 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2008-05-19 - 公布日： 2008-11-26 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供带涂覆膜的基板的制造方法，其中包括：在表面具有凹凸的基板的存在所述凹凸一侧的面上，涂覆涂覆液的涂覆工序；在冷却所述基板的同时，对气氛进行减压使被涂覆的所述涂覆液干燥的干燥工序。其为即便在具有凹凸的面上形成涂覆膜，也可以形成表面平坦性高的涂覆膜的带涂覆膜的基板的制造方法。
带涂覆膜制造滤色器及其显示装置

[实用新型]基板处理装置及基板载体-CN201720990269.8有效
发明人：赵康一 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2017-08-09 - 公布日： 2018-05-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及基板处理装置及基板载体，基板处理装置包括：涂覆处理部，其进行对基板的药液涂覆工序；基板载体，其在涂覆处理部沿着预先设定的涂覆处理路径对基板进行处理期间，平整地支撑基板。由此，能够获得抑制基板弯曲、形成厚度均匀的药液涂覆膜的有利效果。
处理装置载体

[发明专利]液体涂覆装置和液体涂覆方法-CN201280010722.4无效
发明人：野野村胜;阿部成孝 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2012-03-13 - 公布日： 2013-11-13 - 主分类号： B05C13/00 文献下载
摘要：该液体涂覆装置(1)具有：基板供给部(R1)，容纳装着涂覆之前的基板(4)的基板供给料斗(5)；涂覆头(14)，向已经被运送至作业位置的基板(4)涂覆液体(Q)；和基板收集部(R2)，容纳装着涂覆之后的基板(4)的基板收集料斗(5)。基板供给部(R1)和基板收集部(R2)定位成一个在另一个之上。该构造可以使该液体涂覆装置的尺寸减小。
液体装置方法

[实用新型]光刻胶涂覆设备-CN201220575490.4有效
发明人：赵娜;王守波;王文龙;操彬彬 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2012-11-02 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光刻胶涂覆设备，涉及半导体工艺技术领域，为了解决现有技术对待涂覆的基板涂覆光刻胶时，其上沾染的异物会导致各种不良情况的发生。该光刻胶涂覆设备，包括固定在喷嘴平动装置下方的涂覆喷嘴，还包括除异物装置，位于待涂覆基板上方，用于在使用涂覆喷嘴向待涂覆基板上表面涂胶的同时，向待涂覆基板上表面的未涂胶部分喷射气体，以使异物沿喷嘴平动装置的运动方向脱离待涂覆基板
光刻胶涂覆设备

[发明专利]基板处理方法-CN202010647401.1在审
发明人：朴祥铉;李弘周 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-07-07 - 公布日： 2021-01-19 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：根据利用包括涂覆腔体、曝光腔体、显影腔体及返工腔体的基板处理装置的基板处理方法，能够执行用于向基板上涂覆药液的涂覆工艺。向所述基板上涂覆所述药液的过程中从所述基板上检测到异物质的情况下，能够中断向所述基板上涂覆所述药液。能够将上部存在所述异物质的所述基板从所述涂覆腔体直接移送至所述返工腔体，能够在所述返工腔体内对所述基板执行返工工艺。
处理方法

[发明专利]涂覆基板的方法和涂覆基板的涂覆设备-CN201980099178.7在审
发明人：马库斯·哈尼卡;朴炫灿 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-08-09 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：描述了一种用具有三个或更多个阴极组件的阴极阵列涂覆基板的方法，所述阴极组件具有可旋转的对应的磁体组件。所述方法包括：在关断所述阴极阵列时，将所述基板移动到第一位置；在第一角扇区中以往复运动的方式移动所述磁体组件中的第一磁体组件时，在第一操作中涂覆在所述第一位置的所述基板；在将所述基板移动到第二位置之前，关断所述阴极阵列；在关断所述阴极阵列时，将所述基板移动到所述第二位置；在另一个角扇区中以往复运动的方式移动所述第一磁体组件时，涂覆在所述第二位置的所述基板。
涂覆基板方法设备

[发明专利]陶瓷基板的涂覆钻孔方法、涂层溶胶及涂覆装置-CN201410234728.0有效
发明人：肖磊;闫振峰;褚志鹏;杨锦彬;宁艳华;高云峰 -专利权人：深圳市大族激光科技股份有限公司
申请日： 2014-05-29 - 公布日： 2014-09-03 - 主分类号： B23K26/382 文献下载
摘要：本发明涉及陶瓷基板的激光加工领域，具体涉及一种陶瓷基板的涂覆钻孔方法，包括以下步骤：配制涂层溶胶；将涂层溶胶涂覆于陶瓷基板上，并形成薄膜；采用激光器对陶瓷基板进行钻孔；分离陶瓷基板上的薄膜。本发明还涉及一种用于陶瓷基板的涂层溶胶和一种陶瓷基板涂层的涂覆装置。本发明通过陶瓷基板的涂覆钻孔方法、涂层溶胶以及涂覆装置，采用涂覆装置将涂层溶胶涂覆于陶瓷基板上再进行钻孔，该涂层溶胶增加陶瓷基板对激光的吸收率，使激光钻孔加工避免漏钻现象，且溶胶涂覆均匀，钻孔后容易从陶瓷基板上分离下来
陶瓷钻孔方法涂层溶胶装置

[发明专利]涂覆设备、处理腔室和涂覆基板的方法以及用至少一个材料层涂覆的基板-CN201980087373.8在审
发明人： W·布劳恩;J·曼哈特 -专利权人：马克斯·普朗克科学促进学会
申请日： 2019-10-28 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种用由层材料(58)制成的至少一个材料层(56)涂覆由基板材料(54)制成的基板(52)的涂覆设备(1)。本发明还涉及一种用于涂覆设备(1)的处理腔室(10)，所述涂覆设备(1)用由层材料(58)制成的至少一个材料层(56)涂覆由基板材料(54)制成的基板(52)。本发明还涉及一种在涂覆设备(1)中用由层材料(58)制成的至少一个材料层(56)涂覆由基板材料(54)制成的基板(52)的方法。本发明的另一方面涉及一种用至少一个材料层(56)涂覆的基板(52)，包括用由层材料(58)制成的至少一个材料层(56)涂覆的由基板材料(54)制成的所述基板(52)。
设备处理涂覆基板方法以及至少一个材料层涂覆

[发明专利]使用顶帽能量分布激光加工经涂覆基板的方法-CN202180056304.8在审
发明人： S·赫姆;U·斯图特 -专利权人：康宁股份有限公司
申请日： 2021-05-26 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： C03B33/09 文献下载
摘要：一种分离经涂覆基板的方法，包括将红外激光射束引导至经涂覆基板的第一表面上。经涂覆基板包括设置在透明工件上的涂覆层，多个缺陷沿轮廓线设置在经涂覆基板内，该轮廓线将主要区域与经涂覆基板的虚设区域分开。方法还包括将经涂覆基板和红外激光射束中的至少一者相对于彼此平移，使得红外射束斑追踪振荡路径，该振荡路径在平移方向上遵循偏移线并在内轨道线和外轨道线之间振荡，该振荡路径设置在经涂覆基板的虚设区域上，并且红外激光射束对多个缺陷施加热能，以引起经涂覆基板的分离。
使用能量分布激光加工经涂覆基板方法

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条